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時(shí)尚
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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

2025-09-03 18:49:16作者:

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這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國(guó)制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。只能采用相對(duì)落后的芯片西方技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片 ,

技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用